6. Europäisches Atelierprogramm der ACC Galerie/Stadt Weimar 2000
Herzblut - Schriftbild
Renèe Ridgway/Amsterdam - 3. Stipendiat

International Studio Program of the ACC Galerie and the City of Weimar (since 1994)

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studioprogram@acc-weimar.de

Municipal Studio Building

Die 3. Stipendiatin des diesjährigen Europäischen Atelierprogramms des ACC und der Stadt Weimar, Renèe Ridgway, stammt ursprünglich aus den Vereinigten Staaten, lebt und arbeitet aber seit 10 Jahren in Amsterdam. 1999 erhielt sie ein Stipendium in Frankreich, um ihre Arbeit "L'audition" fertig zu stellen. Sie ist und war mit Ausstellungsprojekten in New York und Indien beschäftigt. Für ihren Weimarer Arbeitsaufenthalt bis Ende Oktober 2000 zum Thema Herzblut-Schriftbild - zur Frage nach der Authentizität und Individualität -, hat sie zwei Projekte geplant: "In einem Augenblick" (Iris(kopie)) Im Zeitalter der technischen Reproduzierbarkeit verändert sich die Bedeutung der Signatur. Die Identifikation einer Person erfolgt schon lange nicht mehr durch die Handschrift. Moderne Technik erlaubt es, ein unverwechselbares Signum der Persönlichkeit durch eine Aufnahme der Iris zu erstellen. Ridgways Experiment besteht darin, die Weimarer Bevölkerung an der Erstellung eines Weimarer Gesamtkunstwerkes zu beteiligen. "Der kleine Unterschied..." Ridgway erarbeitet ein sehr persönliches deutsch-niederländisches Wörterbuch, das die Kluft zwischen der deutschen und der niederländischen Kultur zu überbrücken helfen soll. Geplant ist eine Publikation, die es den Reisenden in das jeweilige Nachbarland erleichtern soll die - zum großen Teil historisch bedingte - Scheu voreinander abzulegen.

siehe auch Herzblut - Schriftbild Ausstellung im ACC.